半导体去氧化膜/有机物等离子表面处理设备的知识

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【58信息网】作为新一代电子的基础材料而备受全球显示器技术人员关注的就是氧化物半导体TFT。因为氧化物半导体TFT是驱动超高精细液晶面板、有
半导体去氧化膜/有机物等离子表面处理设备的知识
 作为"新一代电子的基础材料"而备受全球显示器技术人员关注的就是氧化物半导体TFT。因为氧化物半导体TFT是驱动超高精细液晶面板、有机EL面板以及电子纸等新一代显示器的TFT材料佳候选之一。预计早将在2012~2013年开始实用化,将来或许还会成为具备"柔性"和"透明"等特点的电子元件的实现手段。

半导体去氧化膜/有机物等离子表面处理设备

TAOS类TFT的载流子迁移率高达250px2/Vs以上,特性不均现象也较小。因此,可驱动像素为"4K×2K"(4000×2000像素级)、驱动频率为240Hz的新一代高清晰液晶显示器。当前的标准技术--非晶硅类TFT以及作为新一代技术而被大力开发的有机半导体TFT因载流子迁移率只有数cm2/Vs以下,很难应用到上述用途中。即使是在有机EL显示器领域,与开发案例较多的低温多晶硅类TFT相比,实现大屏幕化时还是TAOS类TFT具有优势这是因为AOS类TFT可以抑制有机EL面板中存在着的因TFT特性不均而导致的显示不均现象。TAOS薄膜可通过溅射法形成,制造成本也容易降低。
氧化物半导体是通常容易成为绝缘体的氧化物,但却具有半导体的性质。在众多物质当中,受关注的是"透明非晶氧化物半导体(TAOS:TransparentAmorphous Oxide Semiconductors)"。非晶IGZO(In-Ga-Zn-O)就是一个代表性例子。除了三星和LG显示器等韩国企业外,日本的夏普、凸版印刷以及佳能等企业也在致力于TFT的应用开发。

 
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